L/F – Substrate – Others​

腔体式​

腔体式​ (4)

腔体式电浆清洗设备，可一次性清洗大量产品，并有LF(100KHz)与RF(13.56MHz)供选择。
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In-line式

In-line式 (2)

针对plasma clean 效果要求更高而开发的设备, 可进行单一片或多片清洗, 并搭配RF(射频),MFC 使用。
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