• CL-1000M

CL-1000M

6"/8"/12" Ring Wafer MW Plasma Cleaning

CL-1000M是专用于FFC的全自动电浆处理系统,搭配微波电浆系统,可以达到高均匀性的清洗结果。

  • 应用
    • 封胶前的表面清洁与活化
    • 防粘处理
    • EMC薄化
    • 电浆清除残胶:封胶后,清除EMC残留物
    • 电浆去渣胶雷射钻孔后,清除EMC残留物
    • 晶片侧壁蚀刻,用于增加晶片强度 
  • 特色
    • 微波电浆源可提供无ESD解决方案和等向性蚀刻制程
    • 可选配Cooling Chuck,以防止晶圆切割胶带损坏
    • 搭配旋转盘以提高制程均匀性
    • 产品尺寸:6"/8"/12"
    • 可选择自动化系统,SECS/GEM


 Plasma Solution_CL1000M DM