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產品介紹
电浆技术科技
Wafer Form
CL-1000M
CL-1000M
6"/8"/12" Ring Wafer MW Plasma Cleaning
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产品叙述
应用
CL-1000M是专用于FFC的全自动电浆处理系统,搭配微波电浆系统,可以达到高均匀性的清洗结果。
应用
封胶前的表面清洁与活化
防粘处理
EMC薄化
电浆清除残胶:封胶后,清除EMC残留物
电浆去渣胶
:
雷射钻孔后,清除EMC残留物
晶片侧壁蚀刻,用于增加晶片强度
特色
微波电浆源可提供无ESD解决方案和等向性蚀刻制程
可选配Cooling Chuck,以防止晶圆切割胶带损坏
搭配旋转盘以提高制程均匀性
产品尺寸:6"/8"/12"
可选择自动化系统,SECS/GEM
Plasma Solution_CL1000M DM